【虎科技】8月22日消息，马来西亚槟城的一次集体采访中，英特尔(Intel)逻辑开发副总裁William Grimm表示，他对英特尔4纳米工艺的表现充满信心，称该工艺的良率超出预期。
据了解，英特尔4工艺是该公司首次应用极紫外光(EUV)技术的工艺，William Grimm强调，通过使用EUV，他们可以更好地控制工艺的复杂性。他还指出，与预期相比，他们取得了更高的产量，这对于工艺的推进具有重要意义。
关于工艺性能，根据IC Knowledge提供的逆向工程数据，英特尔4工艺的性能优于台积电(TSMC)的5纳米工艺，甚至接近于台积电的3纳米工艺。尽管如此，William Grimm强调，由于不同代工厂的工艺标准不同，直接比较仍然具有挑战性。他表示，英特尔4工艺专注于提高能效，这使其特别适用于笔记本电脑等应用领域。
据虎科技了解，William Grimm还提到，他们已经有足够的EUV产能来满足市场需求。此外，英特尔的未来计划也已经明确，他们正在积极推进下一代工艺的开发，其中包括Intel 3工艺。
