苹果新专利:屏下Face ID技术,iPhone刘海或将消失?

   时间:2025-01-16 12:20 来源:ITBEAR作者:赵云飞

近日,科技媒体patentlyapple披露了一项令人瞩目的消息,苹果公司成功获得了一项新技术专利,该专利的核心在于将Face ID组件巧妙地隐藏于屏幕之下,为用户带来更加简洁和一体化的使用体验。

Face ID技术以其高精度和便捷性著称,通过深感摄像头投射并分析大量点阵,实现对人脸数据的精确捕捉。然而,由于技术限制,当前Face ID系统中的关键组件,如红外摄像头和点阵投影器等,尚无法完全融入屏幕下方。因此,苹果不得不采用所谓的“药丸屏”设计作为折衷方案。

据悉,这项新专利不仅涵盖了iPhone,还扩展到了MacBook、iMac、智能眼镜以及Apple Watch等多种电子设备。专利描述了一种创新方法,旨在将光学传感器巧妙地置于屏幕下方。为实现这一目标,专利提出了一种“像素移除区域”的设计,该区域与传感器部分重叠,并通过多种方案优化光线透过率。

具体而言,专利提出了移除像素移除区域中50%或10%-90%子像素的方案,以提升光线传输效率。同时,专利还深入探讨了触控传感器网格在像素移除区域的布局方式,包括完全保留、完全移除或部分移除等策略,以平衡触控灵敏度和光学传感器的性能。

专利还涉及对覆盖层的处理,包括基板保护层、栅极电介质层、无机钝化层或有机像素定义层的选择性图案化处理,以进一步优化传感器的性能和集成度。

这一专利的公布,标志着苹果在屏幕下Face ID技术方面取得了重要进展。尽管目前尚不清楚这项技术何时能够应用于实际产品,但无疑为未来的苹果设备设计提供了更多可能性。

 
 
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